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July 06, 2007

ニコン:投影型露光装置

世のお父さんたちは、現在連載中の『私の履歴書』@日経を食い入るように読んでらっしゃるんしょうなあ。なにせ、長島茂雄さんですからな。

アマサイは、前回までやっていた、ニコン相談役・吉田庄一郎さんの方が興味深かったです。光エレクトロニクスの黎明、デジタルカメラの出現、特許訴訟、とアマサイの心中にフォーカスするネタが多かったです。

ステッパの開発物語が特におもしろかったです。
引用は日経じゃないですが、
ナノネットインタビュー

70年代初め、ニコンはそれらの技術を土台に半導体向けマスク座標測定機を開発、0.1マイクロメートル単位での測定を世界で初めて可能にする。「それまでは、特殊なルーリング・エンジンや天体望遠鏡しかやっていなかったので、これで初めてリピートオーダーをいただけるようになりました。それで、これは何とか会社に寄与できるんじゃないかと、だんだん半導体の世界に入り込んでいったんです」。当時は、ウェーハ上にマスクを載せて露光するコンタクト・プリントが行われていた。だが、解像度を追求していけば、マスクパターンをレンズで縮小して焼き付ける必要が出てくる。そして、ニコンの持つ座標測定機の技術と高解像力レンズを利用すれば、高精度でウェーハを移動しながら縮小した回路を焼き付けられるはず。
ステッパ
縮小投影型露光装置。微細な電子回路パターンをウエハ上に焼き付けるための装置で、半導体製造工程の中核をなす。回路原版の像を縮小投影レンズによってウエハ上に縮小投影露光をする。一定間隔で逐次移動をするステージでウエハを移動し、回路像をウエハの端から1チップ分ずつ繰り返し露光することから、ステップアンドリピート方式と呼ばれ、一般的にはステッパとの呼称となった。
「ステッパの場合は、水のある狭い空間にセンサーなども入れて全部自動化しなければいけないので、設計はかなり難しいと思うんです。でも、既存技術というのは土俵際に行ってから踏ん張る力が出る。光技術による高解像度化も1マイクロメートルからサブミクロンの上の方で終わるだろうと見ていたのが、なんと一桁高まったわけですから。人間の英知というのはどこまで行くのか、底知れぬものがあるなという気がしています」。

無料データベースでは、あんまし昔のものはヒットしないので、こんなとこですかね。

【特許番号】第2590478号
【発明の名称】投影露光装置及び投影露光方法
【出願人】株式会社ニコン
【登録日】平成8年(1996)12月19日
【出願日】昭和62年(1987)6月15日

259047801 今日、超LSI等の高集積度半導体素子の製造にあたっては、投影型露光装置は不可欠の装置となっている。そして、最近の一層の高集積化に対応して、より微細なパターンをより広い領域にわたって正確に投影露光する要請が高まってきている。(中略)そこで、比較的狭い露光領域ではあるが高い解像力を有する投影レンズを用い、被露光物体としてのウエハを所定量だけ移動させて複数の露光を繰り返して画面を合成することが提案されている。即ち、大きなパターンを複数に分割してそれぞれ順に露光して感光体基板上で露光画面をつなぐことによって大きなパターンを合成するのである。これによって、高い解像力を維持しつつ、より広い露光領域を得ることが可能となる。(中略)
 本発明の目的は、微細パターンの投影露光を繰り返してより大きな画面を合成するに際し、画面の境界領域におけるパターンの接続を良好に維持し、以て高い解像力を有しつつより広い領域の投影露光を行い、大きな画面の構成を可能とする投影露光装置及び投影露光方法を提供することにある。(中略)
 上記の如き本発明の構成によれば、接続される2つのパターンの重複領域が光軸位置から等しい距離にあるため重複領域における各パターン像の歪曲収差による変形が等しくなるため、残存歪曲収差の状態に限らず、常に良好なパターンの接続が可能となる。従って、分割露光されたパターンの境界が滑らかに接続され、良好な画面合成を行うことが可能となる。

これではないと思いますが、2000年のASMリソグラフィー社とのステッパー特許訴訟、もっと知りたいですね。こいつは自分で調べてみますか。

某トンデモさんの悪行記(批判しているということ)のページにアマサイブログの記事がリンクされている模様。あまり愉快ではないが、資料として使われているなら仕方ないか。今日も人気blogランキング・自然科学にぷちっとな。【押す】
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