無料ブログはココログ

« エライ金属結合 | Main | すべては「C」になる。 »

February 18, 2014

EUVリソグラフィ

キヤノンがMolecular Imprintsの半導体事業を買収

ナノパターニング・システムとソリューションの市場と技術をリードするMolecular Imprints Inc.(MII)は14日、同社の半導体インプリントリソグラフィー装置事業を日本のキヤノンに売却する合意に調印したと発表した。キヤノンは現在、KrFエキシマおよびi-Line露光リソグラフィー・プラットフォームを製造、販売している。キヤノンは2004年、最先端の高解像パターニングのためのリソグラフィー装置市場に参入するため、ナノインプリント技術の研究を開始した。同社は2009年から、MIIおよびMIIのJet and Flash(商標)Imprint Lithography(J-FIL、商標)を使用する大手半導体メーカー1社と大量生産を目指して合同開発に着手した。 (中略) Molecular Imprintsは、オースティンにあるテキサス大学でSV・スリーニバサン、グラント・ウィルソン両教授によって開発された技術に基づいて創設された。Molecular Imprintsはこの数年間、キヤノンをはじめ半導体産業インフラストラクチャー・パートナーと共同研究を続け、業界が光学およびEUVリソグラフィーが抱える解像度の限界と膨らむコスト負担を回避することによってムーアの法則を堅持することを可能にした。J-FILを使った最初の製品は、2年間以内に高度なフラッシュ・メモリーに採用される予定である。

リソグラフィー装置はキヤノンの技術で十分なような気がしますが、常に先取りしていきたいということですかな。

というか、EUVリソグラフィは今難所にきておるわけですな。

EUVは本当に実用化できるのか?

一方、EUV(極端紫外線)リソグラフィ技術は、現在もまだ開発中の段階にある。このEUVリソグラフィについては、多くの半導体メーカーが、実用化されればすぐに移行を進めるという考えを明らかにしている。しかし、いくつかの半導体メーカーは別の見解を示している。それは、より高い屈折率の液体を使う液浸リソグラフィやマルチパターニングなどを193nmリソグラフィと組み合わせることにより、ITRS(国際半導体技術ロードマップ)で最終点とされている8nmプロセスを実現できる可能性があるというものだ。

技術の世界は広いので一つの記事ではなかなか理解できません。

半導体製造技術と言ってもいろいろです。人気blogランキング・自然科学にぷちっとな。【押す】≪応接室、ちょっと不具合が出ています。少々お待ちください≫

« エライ金属結合 | Main | すべては「C」になる。 »

「知的財産」カテゴリの記事

「自然科学・工学」カテゴリの記事

TrackBack

TrackBack URL for this entry:
http://app.cocolog-nifty.com/t/trackback/61116/59156256

Listed below are links to weblogs that reference EUVリソグラフィ:

« エライ金属結合 | Main | すべては「C」になる。 »

サイト内検索
ココログ最強検索 by 暴想

更新情報

June 2017
Sun Mon Tue Wed Thu Fri Sat
        1 2 3
4 5 6 7 8 9 10
11 12 13 14 15 16 17
18 19 20 21 22 23 24
25 26 27 28 29 30